FUJIFILM Wako Chemical
Werk Hiratsuka
- classHiratsuka, Präfektur Kanagawa
- Grundstücksfläche36,000 m2
- Anzahl der Angestellten300 Personen
- Betriebsaufnahme1961
- ZertifizierungISO9001, ISO14001
- Verschiedene unterschiedliche Mehrzweckanlagen
- Kleine Mengen/große Vielfalt von Chemikalien von mehreren Kilogramm bis mehreren Tonnen realisierbar
- Ultratieftemperaturtanks, Teflon-ausgekleidete Tanks und Kilolab-Anlagen
Hauptanlagen
- Maßstab Reaktionsanlagen: 40–6,000 l (GL, SUS, Teflon)
- Reaktor: Hochdruckreduktionsbehälter (Autoklav), Niederdruckreduktionsbehälter, Hochtemperaturreaktor (≤ 250°C), Normaldruckreaktor (SUS, GL) und Reaktor für hochviskose Inhalte (≤ 70,000 CP)
- Fest-Flüssig-Trennung: Zentrifugalabscheider, Filtrationstrockner, Hochgeschwindigkeits-Dekanter und Querstrom-Filtrationsgerät
- Trocknungsmöglichkeiten: Doppelkonischer Trockner, Plattentrockner, Regal-Vakuumtrockner und regalförmige Trockner
- Sonderanlagen: Sumpfdestillation, Sakuma-Konzentrator, Mehrstufendestillation, verschiedene Granulatoren, verschiedene Brecher, Elektrodialysator, Dispergiergerät, Sulfonierungsanlage, Wasserverbots-Handhabungsanlage, Teflon-ausgekleideter Tank für Fluorverbindungen, Kilolab-Anlage u.a
