「ソルトレラ®」は、合成系増粘剤のようにチキソトロピー性を保持しながら天然系高分子のように多価のイオンにも強い耐塩増粘剤（イオン応答性ポリマー）です。
近年、ラジカル反応は、有機合成における有用な結合形成手段として利用が報告されています。V-70は富士フイルム和光純薬が独自に開発したラジカル開始剤であり、ラジカル付加反応の添加剤として使用できます。
重合開始剤は、高分子の合成に用いられます。
当社では、有機溶剤に可溶なタイプ、水に溶解するタイプなど様々な構造を有するアゾ重合開始剤を取り揃えております。お客様の用途に応じてご利用ください。
当社は極低温域での反応装置として、60LSUS釜と1000LGL釜を保有しております。いずれもジャケットによる冷却システムを採用しており、コンタミネーションの心配はありません。1000LGL釜は、-80℃から130℃までの内温に対応できるマルチプラントタイプとなっております。更により安全で特徴的な反応ができるフローリアクターも保有しており、極低温域での反応を安全にかつマイルドに実施した実績もございます。
光塩基発生剤（PBG:Photo Base Generator）は、紫外線の照射によってアニオン（塩基）を発生します。PBGから発生する塩基を利用したアニオンUV硬化技術は、塗料、印刷インキ、歯科材料、フォトレジストなどの様々な分野での応用が期待され、近年注目を集めています。当社では、独自に開発した PBGに加え、東京理科大学・理工学部の有光准教授と共同で製品開発した様々なバリエーションのPBGを取り揃えております。
ハイビスワコー®とは「医薬部外品原料規格」及び「医薬品添加物規格」に収載されている「カルボキシビニルポリマー」に適合する安全性の高い水溶性高分子です。化粧品グレードでは「カルボマー」として親しまれ、少量で増粘するため増粘、分散、乳化等の用途で多くのお客さまにご利用いただいております。
近年、半導体の最先端のデバイスは微細加工のレベルがナノ領域へと進み、すでにArFエキシマレーザーによる3Xnm世代の量産化が始まり、その一方では、2Xnm世代の開発が急ピッチで進められております。このような最先端のフォトレジスト材料に使用される酸発生剤、ポリマーの品質は、半導体のナノ領域への微細化に伴い、極めて高度な品質レベルが要求されます。
当社は長年にわたって培ってきたフォトレジスト材料の開発／製造技術／分析技術やノウハウを活用し、高品質な酸発生剤、ポリマーを安定的に提供しております。また、近年ではお客様の高度な品質要望に応えるべく全社的に品質保証システムを見直し、原料から製品までの一貫した品質管理と統計管理手法を導入しております。さらに一歩進んだ分析技術を開発する事により、一桁ppbオーダーでの金属管理を実現致しました。
今般の最先端材料は、主成分の含量の管理と同様、又はそれ以上に不純物の管理が要求されています。当社が目指す「キレイな化学」は、キレイを証明する技術が必要です。「キレイな化学」を支えている当社の分析技術をご紹介致します。
光反応とは光エネルギーによって開始される反応であり、熱反応とは異なった生成物を与えるユニークな特徴があります。当社の光反応の技術と設備をご紹介いたします。
四酸化オスミウムは、アルケン類から cis-1,2-ジオールへと変換する重要な酸化剤です。この合成プロセスをスケールアップする際には四酸化オスミウムの毒性、およびオスミウム廃液が問題となります。当社では、この毒性の強いオスミウムを厳重に管理することで、安全かつ効率的な製造を実現しました。