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FACTORIES & EQUIPMENT

工場・設備

富士フイルムワコーケミカル広野工場

  • 所在地福島県広野町
  • 敷地面積139,000 m2
  • 事業人員150名
  • 操業開始1990年
  • 認証ISO9001, ISO14001
外観写真
  • カテゴリー5の高薬理活性原薬設備
  • c-GMP対応のマルチパーパス設備
  • c-GMP対応の超低温釜、水素添加釜、耐フッ素釜、各種粉砕機を保有
  • 医薬品原薬・中間体、高薬理活性原薬と幅広い医薬品の製造に対応
  • 1997年に医薬品製造業許可、2016年にFDA認証取得
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主要設備

  • 反応機のスケール：200～10,000L(GL,SUS,テフロン)
  • 反応容器：GL反応釜、SUS反応釜、低圧還元釜(SUS:～0.5Mpa)、テフロン反応釜、超低温反応釜（～-100℃）
  • 固液分離：遠心分離機、ろ過乾燥機、高速デカンター
  • 乾燥設備：ダブルコニカル乾燥機、振動乾燥機
  • 特殊設備：二重管濃縮器、多管式濃縮器、各種造粒器、各種粉砕機

高薬理活性原薬製造設備

  • カテゴリー5 （OEL：0.1μg/m3）対応
  • スケール：600L、800L
  • 粉砕まで一貫して受託可能
製造対象 医薬原薬・治験原薬 cGMP対応（経口・非無菌）
装置設備 封じ込めエリア
・600 L（GL）×2基
・800 L（GL）×1基
・ろ過乾燥機（0.38m2）×1基
（材質：ハステロイ®C22 相当）
・粉砕機：スパイラルジェットミル
一般製造エリア
600 L（GL）×1基 		マルチパーパス×1ライン
・最低取扱液量：約50 L
・最低取扱液量：約50 L
・ろ過乾燥機内容量：約100 L
粉砕機メーカー
・Food and Pharma Systems社製
分析室×１
実験室×１（ 製造設備から独立した空調管理）
封じ込め性能 カテゴリー5まで OEL：0.1μg／m3まで
清浄度 ISO クラス8（クラス100,000相当）
温度範囲 ‒15～100 ℃ ジャケット媒体：ブライン
建屋規模 ≒900m2　鉄骨造ALC張2階建
設備外観
設備内観1
設備内観2

大型マルチパーパス 原薬製造設備

医薬品原薬・中間体の大量生産委託ニーズに対応いたします。

  • 10,000L 大容量反応釜
  • 原薬の粉砕が可能（ カウンタージェットミル）
  • 最終晶析釜：2,000L、5,000L
大型製造設備の外観
スケール 2,000～10,000L（GL/SUS）
管理レベル GMP
特記事項 6,000L（SUS） 低温反応釜（－30℃）
カウンタージェットミル
ISO クラス8 クリーンルーム

治験原薬製造設備

多種多様な反応が可能なマルチライン設備

スケール 1,000～2,000L（GL/SUS）
管理レベル GMP
特記事項 1,200L（SUS） 低圧水添反応釜（0.5MPa）
1,000L（HC） 超低温釜（－90℃）
2,000L フッ素樹脂ライニング釜
ISO クラス8 クリーンルーム

原薬製造設備

スモールサイズの製造にも対応可能

スケール 100～600L（GL/SUS）
管理レベル GMP
特記事項 カラム精製装置
ISO クラス8 クリーンルーム

原薬製造設備（第１工場）

商業用原薬製造設備として20年の稼働実績

スケール 2,500～4,000L（GL/SUS）
管理レベル GMP
特記事項 最終晶析釜：2,500L
カウンタージェットミル、ハンマーミル、パワーミル
ISO クラス8 クリーンルーム

医薬中間体製造設備（第２工場）

ラージスケール × 連続生産 ＝ コストダウンが可能

スケール 6,000～10,000L（GL/SUS）
管理レベル GMP
特記事項 6,000（L SUS） 低圧水添反応釜（ 0.4MPa）
n-BuLi取り扱い