Japan
当社の受託合成・受託製造サービスは、培ってきた「合成技術力」「精製技術力」「分析・解析力」を活かして、 エレクトロニクス材料、電子材料、ディスプレイ関連材料、高分子材料、機能性材料、化粧品分野、合成中間体など、お客様の技術要望に沿った化学品の合成・製造を承ります。
合成技術力とは
・フロー合成や光反応等の特殊合成設備
・低金属管理に対応した設備
・毒性や有害性の強い物質(ホスゲン,シアン等)、
臭気物、爆発性のある物質の取扱い
・超低温、加圧反応の対応
精製技術力とは
・金属含量の低減技術
・精製方法の開発と体系化
分析・解析力とは
・プロセス解析技術(PAT)の活用
・ICP分析を用いた不純物管理
・微量な高分子成分の分析技術
受託合成可能な反応・化合物 お問い合わせ
受託合成・受託製造が可能な反応や合成方法、化合物を一部ご紹介します。以下に記載のないものも承っておりますので、ご希望の方はお問い合わせください。
反応一覧
|
Grignard(グリニャール)反応 
|
カップリング反応 
|
水素添加反応 
|
|
リチオ化 
|
D化（重水素化） 
|
CN化（シアノ化） 
|
|
ハロゲン化 
|
エステル化 
|
スルホン化(無水硫酸) 
|
|
ニトロ化 
|
酸クロライド化 
|
エーテル化 
|
|
アルキル化 
|
ヒドロキシル化 
|
アミノ化 
|
|
マイケル付加反応 
|
酸化 
|
還元 
|
|
アミド化 
|
フリーデルクラフツ反応 
|
ポリマー合成 一覧
(メタ)アクリル酸系ラジカル重合 |
リビングラジカル重合 |
アニオン重合 |
懸濁・乳化重合 |
ラクトンの開環重合(ポリエステル) |
溶液重合品の転相乳化 |
溶融重縮合(ポリカーボネート、ポリエステルカーボネート) |
ジイソシアネートとジオールの重付加(ポリウレタン) |
溶液重縮合(ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミック酸) |
ポリマーの粉体化、変性化、脱溶剤、溶剤置換、精製など |
ポリマー原料 一覧
(メタ)アクリル酸クロライド |
(メタ)アクリレートモノマー |
その他モノマー |
RAFT剤 |
架橋剤 |
その他添加剤 |
合成設備 お問い合わせ
工場にて保有している受託合成・受託製造の設備を一部ご紹介します。
主要設備
| 反応機 | 容量 | 40～10,000L |
| 材質 | GL・SUS・ハステロイ・テフロン・濃縮釜・晶析釜 | |
| 温度 | 超低温(-100℃)～高温(250℃) | |
| 圧力 | 高圧・低圧ともに可 | |
| 対応粘度 | ～70,000cP | |
| 分離機・ろ過器 | 遠心分離機、クロスフローろ過器、加圧ろ過器、多段式ろ過器、高速デカンター | |
| 乾燥機 | ダブルコニカル型、振動式、減圧式、流動式（スピードドライヤー）、凍結乾燥、ろ過乾燥機、プレートドライヤー、スプレードライヤー、棚式(真空・送風) | |
その他の設備一覧
| フロー合成設備 | 多管式濃縮器 | サクマ式濃縮器 |
| 薄膜蒸留装置 | 各種蒸留器 | 各種粉砕機 |
| 汎用クリーンルーム | 調液設備 | 遮光設備 |
| 電気透析装置 | 電気分解装置 | スルホン化設備 |
| キロラボプラント | 液中燃焼炉 | フッ素化合物対応テフロン釜 |
| 冷凍冷蔵倉庫 | 精留塔 | 光反応装置 |
| 大型カラム | 溶媒回収設備 | 溶媒回収蒸留塔 |
| 各種廃ガス処理装置 | 総合排水処理設備 | 禁水性物質取扱設備 |
| 蒸留水製造装置 | 超純水製造装置 | RO濃縮装置 |
| 分散装置 |
分析機器 お問い合わせ
受託合成・受託製造でご利用いただける分析機器をご紹介します。以下に記載のない機器も保有しておりますので、お気軽にご相談ください。
分析機器の一覧
| 高速液体クロマトグラフィー(HPLC) | ガスクロマトグラフィー(GC) |
| イオンクロマトグラフィー(IC) | ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC・APC) |
| 液体クロマトグラフ質量分析装置(LC-MS・LC-MS/MS) | ガスクロマトグラフ質量分析装置(GC-MS) |
| 誘導結合プラズマ質量分析法(ICP-MS) | GC用ヘッドスペース分析システム |
| 示差熱・熱重量同時測定装置(TG-DTA) | 示差走査熱量計(DSC) |
| 反応熱量計(RC-1) | インライン赤外分光光度計(reactIR) |
| インライン粒子画像測定装置(PVM) | インライン粒度分布測定装置(FBRM) |
| 核磁気共鳴分光装置（NMR） | インラインNMR |
| 高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置(ICP-AES) | 原子吸光光度計 |
| 蛍光X線（XRF） | マイクロ波試料分解前処理装置 |
| 紫外可視分光光度計(UV) | 赤外分光光度計(顕微FT-IR) |
| 旋光度計 | エネルギー分散型蛍光X線分析装置(EDX) |
| 粉末X線回折装置(XRD) | 動的光散乱式粒径分布装置 |
| レーザー回折散乱式粒度分布測定装置 | 走査型電子顕微鏡(SEM) |
| 電子水分計 | カールフィッシャー水分測定装置 |
| 電気伝導度計 | 表面張力計 |
| 密度比重計 | E型粘度計 |
| B型粘度計 | 各種動粘度計 |
| 融点測定装置 | 色差計 |
| 濁度計 | 屈折率計 |
| 電位差自動滴定装置 | 粉体特性評価装置 |
合成実績・製造事例 お問い合わせ
過去の合成実績・製造事例の中から、特徴的なものをご紹介します。ご検討時の参考として、ぜひご活用ください。
フロー合成
富士フイルム和光純薬は、数十トンスケールの製造機、中量機（～100kg対応）を保有しており、大量生産に向けたお客様のニーズにお応えします。
カップリング反応
残留金属の低減などに関するノウハウを豊富に持っており、当社の得意技術の一つです。お客様のニーズに合わせて、迅速かつ効率的な反応を実現します。
ジヒドロキシル化
オスミウムの安全な取り扱い、オスミウムの除去が可能です。工程中のオスミウム含量を管理することで、製品中のオスミウム含量を管理・保証する技術があります
実機へのスケールアップ
常時500種以上の幅広い製造経験で培われたスケールアップ技術により、少量でのラボテストから一気に実機へのスケールアップが可能。より短い納期での納品を実現します。
晶析における結晶形状制御
有機化合物の晶析の検討・実績から得た豊かな知見をデータベース化しており、最適条件を効率的に探索できます。
ボラン還元の安全なスケールアップ
自然発火や爆発の危険性、人体への有毒性があるジボランガスの「発生」と「クエンチ」をコントロールすることでスケールアップが可能です。
製造工場 お問い合わせ
受託合成を行う各工場をご紹介します。各工場の設備や保有機器の詳細は、工場ごとのページをご確認ください。
愛知工場
スケール：200～10,000L
反応容器：GL、SUS、オートクレーブ、超低温反応装置
固液分離：遠心分離機、ろ過器
乾燥設備：コニカル、減圧乾燥機、その他
播磨工場
スケール：500L、2,000L、3,000L
反応容器：GL、SUS
固液分離：遠心分離機、加圧ろ過器
乾燥設備：コニカル、棚段型(真空・送風)
東京工場
スケール：300～3,000L
反応容器：GL、SUS316
固液分離：遠心分離機、加圧ろ過器
乾燥設備：コニカル、棚段型(真空・送風)
平塚工場
スケール：40～6,000L
反応容器：GL、SUS、高圧・低圧還元釜、高温釜、テフロン釜
固液分離：遠心分離機、高速デカンター、クロスフローろ過器
乾燥設備：ダブルコニカル、プレートドライヤー、真空棚
広野工場
スケール：200～10,000L
反応容器：GL、SUS、低圧還元釜、テフロン、超低温釜
固液分離：遠心分離機、ろ過乾燥機、高速デカンター
乾燥設備：ダブルコニカル、振動乾燥機
宮崎工場
スケール：300～1,200L
反応容器：GL、SUS、濃縮釜、晶析釜、混合釜
固液分離：遠心分離機、加圧ろ過器、多段式ろ過器
乾燥設備：コニカル、棚段型(真空・送風)、凍結乾燥
リッチモンド工場（米国）
スケール：1,000～12,000L
反応容器：GL、SUS
固液分離：遠心分離機
乾燥設備：振動乾燥機、流動乾燥機
無錫工場（中国）
スケール：1,000～6,000L
反応容器：GL、SUS、低圧還元釜
固液分離：遠心分離機
乾燥設備：ダブルコニカル、振動乾燥機、湿式・乾式造粒器
受託合成の流れ お問い合わせ
受託合成・受託製造の一般的な流れをご紹介します。ご依頼いただいた際は、お客さまのご要望に合わせて柔軟に対応いたします。
お問い合わせやお見積り、カタログをご希望の方は以下よりお進みください。
アゾ重合開始剤の分解を簡単にグラフ化できる無料ツール『アゾ重合開始剤 分解シミュレーター』を絶賛公開中。 全15種類のアゾ開始剤が利用でき、お客様の重合条件に合った開始剤選びと重合プロセスの最適化をサポートします。
