Japan
富士フイルム和光純薬の受託合成・製造サービスは
「合成技術力」「精製技術力」「分析・解析力」を活かして、
お客様の技術要望に沿った合成・製造を承ります。
合成技術力
・フロー合成や光反応等の特殊合成設備
・低金属管理に対応した設備
・毒性や有害性の強い物質(ホスゲン,シアン等)、
臭気物、爆発性のある物質の取扱い
・超低温、加圧反応の対応
精製技術力
・金属含量の低減技術
・精製方法の開発と体系化
分析・解析力
・プロセス解析技術(PAT)の活用
・ICP分析を用いた不純物管理
・微量な高分子成分の分析技術
受託合成可能な反応・化合物 お問い合わせ
受託合成・受託製造が可能な反応や合成方法、化合物を一部ご紹介します。以下に記載のないものも承っておりますので、ご希望の方はお問い合わせください。
反応一覧
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Grignard(グリニャール)反応 
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カップリング反応 
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水素添加反応 
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リチオ化 
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D化（重水素化） 
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CN化（シアノ化） 
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ハロゲン化 
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エステル化 
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スルホン化(無水硫酸) 
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ニトロ化 
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酸クロライド化 
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エーテル化 
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アルキル化 
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ヒドロキシル化 
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アミノ化 
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マイケル付加反応 
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酸化 
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還元 
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アミド化 
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フリーデルクラフツ反応 
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ポリマー合成 一覧
(メタ)アクリル酸系ラジカル重合 |
リビングラジカル重合 |
アニオン重合 |
懸濁・乳化重合 |
ラクトンの開環重合(ポリエステル) |
溶液重合品の転相乳化 |
溶融重縮合(ポリカーボネート、ポリエステルカーボネート) |
ジイソシアネートとジオールの重付加(ポリウレタン) |
溶液重縮合(ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミック酸) |
ポリマーの粉体化、変性化、脱溶剤、溶剤置換、精製など |
ポリマー原料 一覧
(メタ)アクリル酸クロライド |
(メタ)アクリレートモノマー |
その他モノマー |
RAFT剤 |
架橋剤 |
その他添加剤 |
合成設備 お問い合わせ
工場にて保有している受託合成・受託製造の設備を一部ご紹介します。
主要設備
| 反応機 | 容量 | 40～10,000L |
| 材質 | GL・SUS・ハステロイ・テフロン・濃縮釜・晶析釜 | |
| 温度 | 超低温(-100℃)～高温(250℃) | |
| 圧力 | 高圧・低圧ともに可 | |
| 対応粘度 | ～70,000cP | |
| 分離機・ろ過器 | 遠心分離機、クロスフローろ過器、加圧ろ過器、多段式ろ過器、高速デカンター | |
| 乾燥機 | ダブルコニカル型、振動式、減圧式、流動式（スピードドライヤー）、凍結乾燥、ろ過乾燥機、プレートドライヤー、スプレードライヤー、棚式(真空・送風) | |
その他の設備一覧
| フロー合成設備 | 多管式濃縮器 | サクマ式濃縮器 |
| 薄膜蒸留装置 | 各種蒸留器 | 各種粉砕機 |
| 汎用クリーンルーム | 調液設備 | 遮光設備 |
| 電気透析装置 | 電気分解装置 | スルホン化設備 |
| キロラボプラント | 液中燃焼炉 | フッ素化合物対応テフロン釜 |
| 冷凍冷蔵倉庫 | 精留塔 | 光反応装置 |
| 大型カラム | 溶媒回収設備 | 溶媒回収蒸留塔 |
| 各種廃ガス処理装置 | 総合排水処理設備 | 禁水性物質取扱設備 |
| 蒸留水製造装置 | 超純水製造装置 | RO濃縮装置 |
| 分散装置 |
分析機器 お問い合わせ
受託合成・受託製造でご利用いただける分析機器をご紹介します。以下に記載のない機器も保有しておりますので、お気軽にご相談ください。
分析機器の一覧
| 高速液体クロマトグラフィー(HPLC) | ガスクロマトグラフィー(GC) |
| イオンクロマトグラフィー(IC) | ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC・APC) |
| 液体クロマトグラフ質量分析装置(LC-MS・LC-MS/MS) | ガスクロマトグラフ質量分析装置(GC-MS) |
| 誘導結合プラズマ質量分析法(ICP-MS) | GC用ヘッドスペース分析システム |
| 示差熱・熱重量同時測定装置(TG-DTA) | 示差走査熱量計(DSC) |
| 反応熱量計(RC-1) | インライン赤外分光光度計(reactIR) |
| インライン粒子画像測定装置(PVM) | インライン粒度分布測定装置(FBRM) |
| 核磁気共鳴分光装置（NMR） | インラインNMR |
| 高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置(ICP-AES) | 原子吸光光度計 |
| 蛍光X線（XRF） | マイクロ波試料分解前処理装置 |
| 紫外可視分光光度計(UV) | 赤外分光光度計(顕微FT-IR) |
| 旋光度計 | エネルギー分散型蛍光X線分析装置(EDX) |
| 粉末X線回折装置(XRD) | 動的光散乱式粒径分布装置 |
| レーザー回折散乱式粒度分布測定装置 | 走査型電子顕微鏡(SEM) |
| 電子水分計 | カールフィッシャー水分測定装置 |
| 電気伝導度計 | 表面張力計 |
| 密度比重計 | E型粘度計 |
| B型粘度計 | 各種動粘度計 |
| 融点測定装置 | 色差計 |
| 濁度計 | 屈折率計 |
| 電位差自動滴定装置 | 粉体特性評価装置 |
合成実績・製造事例 お問い合わせ
過去の合成実績・製造事例の中から、特徴的なものをご紹介します。ご検討時の参考として、ぜひご活用ください。
フロー合成
富士フイルム和光純薬は、数十トンスケールの製造機、中量機（～100kg対応）を保有しており、大量生産に向けたお客様のニーズにお応えします。
カップリング反応
残留金属の低減などに関するノウハウを豊富に持っており、当社の得意技術の一つです。お客様のニーズに合わせて、迅速かつ効率的な反応を実現します。
ジヒドロキシル化
オスミウムの安全な取り扱い、オスミウムの除去が可能です。工程中のオスミウム含量を管理することで、製品中のオスミウム含量を管理・保証する技術があります
実機へのスケールアップ
常時500種以上の幅広い製造経験で培われたスケールアップ技術により、少量でのラボテストから一気に実機へのスケールアップが可能。より短い納期での納品を実現します。
晶析における結晶形状制御
有機化合物の晶析の検討・実績から得た豊かな知見をデータベース化しており、最適条件を効率的に探索できます。
ボラン還元の安全なスケールアップ
自然発火や爆発の危険性、人体への有毒性があるジボランガスの「発生」と「クエンチ」をコントロールすることでスケールアップが可能です。
製造工場 お問い合わせ
受託合成を行う各工場をご紹介します。各工場の設備や保有機器の詳細は、工場ごとのページをご確認ください。
愛知工場
スケール：200～10,000L
反応容器：GL、SUS、オートクレーブ、超低温反応装置
固液分離：遠心分離機、ろ過器
乾燥設備：コニカル、減圧乾燥機、その他
播磨工場
スケール：500L、2,000L、3,000L
反応容器：GL、SUS
固液分離：遠心分離機、加圧ろ過器
乾燥設備：コニカル、棚段型(真空・送風)
東京工場
スケール：300～3,000L
反応容器：GL、SUS316
固液分離：遠心分離機、加圧ろ過器
乾燥設備：コニカル、棚段型(真空・送風)
平塚工場
スケール：40～6,000L
反応容器：GL、SUS、高圧・低圧還元釜、高温釜、テフロン釜
固液分離：遠心分離機、高速デカンター、クロスフローろ過器
乾燥設備：ダブルコニカル、プレートドライヤー、真空棚
広野工場
スケール：200～10,000L
反応容器：GL、SUS、低圧還元釜、テフロン、超低温釜
固液分離：遠心分離機、ろ過乾燥機、高速デカンター
乾燥設備：ダブルコニカル、振動乾燥機
宮崎工場
スケール：300～1,200L
反応容器：GL、SUS、濃縮釜、晶析釜、混合釜
固液分離：遠心分離機、加圧ろ過器、多段式ろ過器
乾燥設備：コニカル、棚段型(真空・送風)、凍結乾燥
リッチモンド工場（米国）
スケール：1,000～12,000L
反応容器：GL、SUS
固液分離：遠心分離機
乾燥設備：振動乾燥機、流動乾燥機
無錫工場（中国）
スケール：1,000～6,000L
反応容器：GL、SUS、低圧還元釜
固液分離：遠心分離機
乾燥設備：ダブルコニカル、振動乾燥機、湿式・乾式造粒器
受託合成の流れ お問い合わせ
受託合成・受託製造の一般的な流れをご紹介します。ご依頼いただいた際は、お客さまのご要望に合わせて柔軟に対応いたします。
お見積りやお問い合わせをご希望の方は、下記よりお進みください。
