Japan
近年、半導体の最先端デバイスは微細加工のレベルがナノ領域へと進み、すでにArFエキシマレーザーによる3Xnm世代の量産化が始まっています。また、その一方では、2Xnm世代の開発が急ピッチで進められております。このような最先端のフォトレジスト材料に使用される酸発生剤やポリマーの品質は、半導体のナノ領域への微細化に伴い、極めて高度な品質レベルが要求されます。
今般の最先端材料は、主成分の含量の管理と同様、又はそれ以上に不純物の管理が要求されています。当社が目指す「キレイな化学」は、キレイを証明する技術が必要です。「キレイな化学」を支えている当社の分析技術をご紹介致します。
