Japan
光酸発生剤
WPAGシリーズ
キレイな半導体をつくる
光酸発生剤は、光の照射によって酸を発生させる化合物です。光硬化性材料の製造やフォトレジスト材料の製造など、様々な用途で利用されています。 当社の光酸発生剤は、主要なレジストメーカーのLSI製造用エキシマレジストにおいて、高い品質と性能が実証されています。
下記にご紹介する製品の他にも、様々なジアゾジスルホン系、トリフェニルスルホニウム系の光酸発生剤をラインナップしております。 また、光カチオン開始剤（ジフェニルヨードニウム化合物）も販売しており、高品質なものから汎用グレードまでの幅広い製品を供給することが可能です。 ご希望に沿う酸発生剤がない場合は、受託合成も承っておりますので、お気軽にお問い合わせください。
